工業(yè)超純水設(shè)備助力科技“芯”發(fā)展

時間：2024-01-22

　　在科技越來越發(fā)達的當代社會，我們的生活已經(jīng)離不開各類電子產(chǎn)品。手機、電腦、相機、智能電器等等，為我們的生活帶來了極大的便利。電子產(chǎn)品市場需求很大，那么作為電子產(chǎn)品核心的芯片生產(chǎn)也是一個龐大的產(chǎn)業(yè)。

　　在芯片生產(chǎn)過程中，反復清洗是必然工序。通過采用超純水反復清洗來去除零配件上殘留的細微分子，將遺留的超微細顆粒污染物、金屬殘留、有機物等會造成芯片污染的污染源清潔干凈，以避免后續(xù)生產(chǎn)加工工藝失敗、電學失效，從而降低芯片成品報廢概率，減少生產(chǎn)廠的損失。

工業(yè)超純水設(shè)備

　　工業(yè)超純水設(shè)備是超純水生產(chǎn)的優(yōu)良工具，近年來，該設(shè)備技術(shù)設(shè)計不斷完善，為“芯”發(fā)展帶來了極大的幫助。工業(yè)超純水設(shè)備嚴格執(zhí)行國家對超純水發(fā)布實施的《儀器分析用高純水規(guī)格及試驗方法》的標準，采用了雙級反滲透系統(tǒng)+EDI模塊的處理技術(shù)，由多介質(zhì)過濾器、活性炭過濾器、精密過濾器等組成的預處理系統(tǒng)、反滲透系統(tǒng)、EDI系統(tǒng)、拋光混床等構(gòu)成主要工藝段，生產(chǎn)超純水產(chǎn)量大、質(zhì)量高。

　　工業(yè)超純水設(shè)備選材優(yōu)良，耐酸堿清洗、抗高污染，在生產(chǎn)超純水時脫鹽效果非常突出。EDI模塊處理不會產(chǎn)生酸堿廢液，后續(xù)工藝不需要額外再進行酸堿中和處理，提高了生產(chǎn)效率。工業(yè)超純水設(shè)備采用獨有的靶向離子交換系統(tǒng)針對超純水中難處理的硼及其他離子定向去除，并對礦物質(zhì)和微量元素充分處理，只保留氫氧原子，運行不會有污染物析出，有效保證系統(tǒng)內(nèi)部無死水。該設(shè)備自動化程度很高，能實現(xiàn)無人值守，操作簡便，為企業(yè)節(jié)約人力投入成本。

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　　編輯：新奇技術(shù)：加菲

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